半导体行业为什么离不开超纯水设备？半导体行业的发展程度是衡量一个国家科技发展水平的核心指标。发展半导体产业，必然少不了电子芯片的生产制造。制造芯片的过程十分复杂，关键的步骤是沉积、光刻胶涂覆、刻蚀、离子注入和封装。而这些步骤都离不开超纯水，因为芯片生产过程需要超纯水进行清洗。

        芯片生产过程中需要用的工艺清洗用水，得用几近绝缘的水质，被称作超纯水，出水电阻率达到18Ω .cm左右。除电阻率，半导体生产用水对如微粒子、 TOC、溶解氧等指标也会有相应要求。那么指标要求这么高的超纯水是如何制备出来的呢？自然界中不存在超纯水，要制备这种超纯水，就需要将自然水通过合适工艺处理而成。

      半导体超纯水设备并不只是一种固定工艺系统，而是很多水处理工艺模块的灵活组合~包括预处理过滤部分、RO反渗透技术、EDI连续电解除盐技术和抛光混床工艺等。

工艺流程主要包括：

水源进水 —— 原水储水箱  ——  多介质过滤器 —— 活性炭过滤器 —— 阻垢装置 —— 5 微米精密过 滤器 —— 双级反渗透纯水机组 —— 反渗透产水储水箱 —— EDI 超纯水制水 机组 —— 超纯水产水储水箱 

（可根据行业生产要求，还会配置抛光混床，中间水箱等，根据客户需求来定制方案）